簡要描述：納克公司光譜儀適用于Fe基產(chǎn)品領域的生產(chǎn)過程控制，中心實驗室成品檢驗等樣品分析，廣泛應用于冶金、鑄造、機械、金屬加工、汽車制造、航空航天、兵器、等領域的生產(chǎn)過程控制。
產(chǎn)品型號：LAB SPAKR 750B廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2024-10-08訪 問 量：2682一、納克光譜儀儀器介紹：
納克光譜儀廣泛應用于冶金、鑄造、機械、金屬加工、汽車制造、航空航天、兵器、等領域的生產(chǎn)過程控制，中心實驗室成品檢驗等，可用于Fe基金屬及其合金樣品分析。可對片狀、塊狀以及棒狀的固體樣品中的非金屬元素（C、P、S、B等）以及金屬元素進行準確定量分析，分析結(jié)果準確，分析精度高。儀器日常維護簡單，運行成本低，故障率低。
二、技術參數(shù)：
1.焦距：750mm
2.譜線范圍：120-800nm
3.高能預火花光源，激發(fā)頻率:300-1000Hz
4.帕邢-龍格架構法，真空光學系統(tǒng)
5.光電倍增管檢測器
6.光柵刻線：2400條/mm
7.工作環(huán)境：溫度10－40℃濕度＜80％
8.電源：220V 16A 2.5KVA
9.重量：350Kg
10.儀器尺寸：長105×深85×高120cm
11.整體出射狹縫，預留240條
三、儀器特點:
激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應各種不同材料
原位單次放電采集的技術（SDA）有效提高分析精度
可變延時積分技術，大大降低背景干擾
高精度光電倍增管負高壓獨立供電連續(xù)可調(diào)技術，調(diào)整更精確，可程序調(diào)整，提高動態(tài)范圍
單板式透鏡架，擦拭時大大降低對光室的污染
基于ARM9的儀器狀態(tài)實時監(jiān)控系統(tǒng)
USB采集，通用性更強
固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運行穩(wěn)定性
綠光背景燈，加快響應速度，提高短期分析精度
銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能
